为增强模拟LSI和晶体管的产能,罗姆集团马来西亚工厂投建新厂房

分享到:

全球知名半导体制造商罗姆(总部位于日本京都市)和罗姆和光株式会社(总部位于日本冈山县)决定在马来西亚的子公司ROHM-Wako Electronics (Malaysia) Sdn. Bhd.(以下简称“RWEM”)投建新厂房,以增强市场需求日益增长的模拟LSI和晶体管的产能。

罗姆集团通过在日本国内外工厂投建新厂房和更新制造设备等举措,致力于不断增强产能。在RWEM,已于2016年投建了一座新厂房(2017年4月投入使用),增加了二极管等分立产品的产能。

此次,为了满足市场对半导体产品的强劲需求,罗姆又在RWEM增建一座新厂房,旨在增强产能,同时从BCM(业务连续性管理)的角度出发,推动模拟LSI和晶体管产品的多基地化生产。新厂房建成后,RWEM的总产能预计将增加约1.5倍。

新厂房为地上3层结构,总建筑面积29,580㎡,计划于2022年1月开工,于2023年8月竣工。
罗姆通过引进融入了各种节能技术的设备,努力减轻环境负荷(预计CO2排放量可减少约15%),并通过引进并实施针对各种灾害的新对策,进一步强化业务连续性管理体系。

今后,罗姆集团将继续把握市场走势,根据集团的中期经营计划增强产能,同时深入贯彻实施多基地生产体制、库存管理、设备防灾体系等相关举措,努力为客户提供稳定的供货。

相关资讯
高频降压型DC-DC转换器电磁干扰源抑制与封装布局降噪方案

高频降压型DC-DC转换器中,MOSFET高速开关与寄生电感相互作用产生高dv/dt尖峰及LC谐振振荡,构成传导与辐射干扰源;通过紧凑功率回路布局、连续地平面及开关边沿软化可降低寄生参数影响,结合共模滤波与频率展宽技术,抑制特定频段辐射峰值,实现电磁兼容性优化。

GaN栅极驱动器隔离工艺与高压高频环境下的可靠性提升策略

GaN栅极驱动器在高dv/dt与高频开关条件下,寄生效应易引发栅极过压及误触发,其隔离工艺需在绝缘耐压与传输延迟间权衡;采用低寄生电容隔离变压器或高速光耦并结合电压限幅、热管理与EMI抑制策略,可降低共模干扰与热应力累积,从而提升高压高频环境下的系统可靠性。

基于PIN二极管的射频开关插入损耗与限幅响应时间优化及工程实现

PIN二极管射频开关利用I区电荷存储特性实现正向低阻与反向高阻切换,插入损耗受正向电阻、寄生电感及阻抗匹配影响,可通过低电感封装与匹配网络优化;限幅响应时间取决于偏置网络充放电速度与驱动方式,采用高速驱动及串并联组合可在纳秒级内完成状态转换,满足高频系统要求。

升压型LED驱动器低纹波恒流输出的控制策略研究

升压型LED驱动器基于电感储能与PWM占空比调节实现电压抬升,其输出电流纹波受电感值、开关频率及滤波网络共同影响;采用峰值与平均电流双环控制可抑制纹波,配合低ESR电容与RC二次滤波进一步平滑电流,在输入波动与负载变化下实现低纹波恒流输出与高效能量转换。

开关二极管在高速钳位与ESD保护电路中的应用特性分析

开关二极管凭借极短反向恢复时间与低结电容,可在纳秒级瞬态过压及ESD事件中快速导通以实现能量泄放与电压钳位;通过低寄生电感封装及靠近保护器件的布局优化,可降低信号通道寄生效应,在保障高速信号完整性的同时实现低损耗、高可靠的过压与浪涌防护。

精彩活动

     

Baidu
map