中国科学院院士张跃:后摩尔时代的机遇与挑战
在信息技术飞速发展的今天,我们不得不面对一个日益严峻的问题:传统的摩尔定律是否还能继续引领我们走向更美好的未来?中国科学院院士张跃对此有着深刻的见解,他认为,我们正站在一个历史性的转折点上,即后摩尔时代。
近期看到Robin Kearey的一篇博文 SMALLER IS SOMETIMES BETTER: WHY ELECTRONIC COMPONENTS ARE SO TINY[1] ,详细分析了电子器件的微型化所带来的影响。如果你还在想疯狂压缩电路体积的话,看看他的分析也许会让你冷静下来。
分享通信业的九大定律~~
在过去几十年里,摩尔定律指引着集成电路产业的发展,点点taptap安卓制造工艺也在按部就班地推进。但进入了最近几年,点点taptap安卓的微缩周期因受到硅材料本身特性和设备的限制而逐渐变慢。换句话说,摩尔定律失效了。
近日,三星公布了其半导体工艺路线图,除了今年下半年使用EUV的7nm量产之外,接下来还将有5nm和4nm FinFET,而到了2020年则会开始3nm基于Gate All-Around (GAA)晶体管的最新工艺。除此之外,ASML则确认了其光刻机使用EUV加上大数字孔径可以实现1.5nm的特征尺寸从而可望支持摩尔定律发展到2030年。近些年来,“摩尔定律接近尾声”的声音不绝于耳,而这些消息却像是给摩尔定律打了一剂强心针,至少在技术上我们还能继续把特征尺寸缩小这件事继续做几年。

